Приставка МП-80

Приставка магнетронного распыления МП-80, мы показываем как комплектующую с помощью которой получают плёнки из диэлектриков, металлов или полупроводников. Особенностью технологии получается получение сложных структур, которые невозможно получить при термическом напылении материалов.

Назначение

Приставка МП-80 предназначена для оборудования новых и модернизации старых вакуумных установок с целью получения металлических, диэлектрических покрытий, простых и сложных плёночных структур. Данная технология применяется при изготовлении электронных компонентов, датчиков, для качественного нанесения защитного покрытия, так же декоративного покрытия на металлические предметы и диэлектрики. Возможно использование МП-80 при изготовлении инструмента и в приборостроении.

Технология магнетронного вариант распыления сведено в бомбардировке распыляемой мишени такими веществами, как ионы газа распыления, которые позже образуются в тлеющем разряде плазмы и возбуждаются при скрещивании магнитных и электрических полей.

Применение смешивания рабочего газа и реактивного газа в сочетании с распыляемой мишенью, состоящей из сплавов металлических примесей, позволяют получать покрытия, которые невозможно получить при других технологиях вакуумного напыления.